该项目历史背景 华东某電子元集成电路芯片加工九正通明，加工工作中应用异丙醇、二甲苯、NMP(N-甲基吡咯烷酮)等设计稀释剂完成高精度洗，引发含稀释剂污水30m³/d。污水部分复杂性，含带高价属阳离子，加工难易大。 废水处理工艺成分表及源于 一般弄脏源： 电源印刷电路板的洗涤废污水：含异丙醇(约1.5%)、异丙醇(0.8%) 机械设备检修污废水 ：含NMP(约0.5%)及轻微巨资属(Cu2+、Ni2+) 水泥地面清洗水：混合着型低酸度废水处理工艺 共同点造成的废弃物：COD 5000-8000mg/L，BOD5 1500-2500mg/L，Cu2+ 15-25mg/L，Ni2+ 8-15mg/L，NMP含量约800mg/L。 解决新工艺的流程 采用了"化学预治理 +防化什么是生化+膜剥离 "技术路线地图： pH调接+血本属沉淀自己 ：添加NaOH和Na2S，删去巨资属 微电解法反馈器 ：铁碳弹性填料床，上升废水处理方法可生化模式性 特类MBR整体 ：主要采用耐液体枯草芽孢杆菌，HRT=18h 纳滤(NF)系统的 ：挪作他用生物大分子式生物碳物 反固化(RO) ：的深度脱盐和清除进样器有机酸物 去创新点：MBR软件预防接种了专用驯化的NMP分解菌株，对NMP彻底清除率达99%上；微电解抛光單元采取离子液体铁碳组合填料，COD彻底清除率提拔至40%。 终极目的 除理后溢水COD<50mg/L，Cu2+<0.5mg/L，Ni2+<0.1mg/L，NMP未查出。85%的产水工业废液除理于生产方式线，做到废液工业废液除理。新项目总项目投资330万元，工业废液除理水的利润使现实除理费用降到5.3元/吨。